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刻蚀的介绍

一语惊醒梦中人1年前 (2023-12-21)阅读数 7#综合百科
文章标签光刻制造工艺

刻蚀的介绍

刻蚀,英文为Etch,它是半导体制造工艺,微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化(pattern)处理的一种主要工艺。所谓刻蚀,实际上狭义理解就是光刻腐蚀,先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理,然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。随着微制造工艺的发展,广义上来讲,刻蚀成了通过溶液、反应离子或其它机械方式来剥离、去除材料的一种统称,成为微加工制造的一种普适叫法。

因为光克集成电路它的精准度更高,精细程度更好,能够达到更好的效果,比如说现在一些非常先进的芯片,它对经度要求都是非常高的,可能到10毫米或者说12毫米,非常小,用电子去刻的话可能就会在经络方面受到了一定影响,很小很小的一个误差,就可能在使用的时候造成非常大的一个差异。

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